纪念碑（张居正奖）
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称：纪念碑（张居正奖）。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于纪念碑。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
基本信息
专利标题 ：
纪念碑（张居正奖）
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202130726044.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-05
授权号 ：
CN307392531S
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
肖志张秀琪
申请人 ：
肖志
申请人地址 ：
重庆市江北区五里店街道五简路2号
代理机构 ：
武汉华之喻知识产权代理有限公司
代理人 ：
曹葆青
优先权 ：
CN202130726044.3
主分类号 ：
25-03
IPC分类号 ：
25-03
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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