面料（几何字母循环CSYD221底纹）
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称：面料（几何字母循环CSYD221底纹）。2.本外观设计产品的用途：本产品用于制作服装、家纺。3.本外观设计产品的设计要点：在于图案与色彩的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。5.请求保护的外观设计包含色彩。6.本外观设计产品为平面产品，省略除主后视图外的所有视图;本外观设计产品的背面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略后视图。7.本外观设计产品为四方连续无限定边界的平面产品。
基本信息
专利标题 ：
面料（几何字母循环CSYD221底纹）
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202130817864.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-10
授权号 ：
CN307249457S
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
张利福郭燕凤
申请人 ：
浙江珂楹实业有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市临平区南苑街道艺尚中心7-1室
代理机构 ：
杭州中港知识产权代理有限公司
代理人 ：
裴大牛
优先权 ：
CN202130817864.3
主分类号 ：
05-05
IPC分类号 ：
05-05
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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