用于制备低聚物的设备
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种用于制备低聚物的设备，更具体地，涉及一种用于制备低聚物的设备，包括：反应器，该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域，和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域；第二气体反应物入口和第三气体反应物入口，所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上，所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上；以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴，所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接，所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。
基本信息
专利标题 ：
用于制备低聚物的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114555223A
申请号 ：
CN202180005012.1
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-07-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄文燮李政锡宋宗勋陆炅奭宣玟浩李洪旻
申请人 ：
株式会社LG化学
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 ：
李琳
优先权 ：
CN202180005012.1
主分类号 ：
B01J19/00
IPC分类号 ：
B01J19/00 B01J10/00 C07C2/32 C07C11/107 C07C11/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J19/00
化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01J 19/00
申请日 : 20210709
申请日 : 20210709
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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