用于抑制EZH2的化合物和组合物
实质审查的生效
摘要
本发明涉及式(I)的氮杂‑喹啉化合物，包括此类化合物的药物组合物；以及此类化合物用于治疗由Zeste同源物增强子2(EZH2)、多梳抑制复合体2(PRC2)或其组合介导的疾病或病症的用途。
基本信息
专利标题 ：
用于抑制EZH2的化合物和组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114555589A
申请号 ：
CN202180005903.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-08-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
代璇迈克·多尔顾祥巨李玲刘康志麦星洋米沅欧阳孔德朱利恩·帕皮伦费琦严小霞郁征天张继跃赵克浩
申请人 ：
诺华公司
申请人地址 ：
瑞士巴塞尔
代理机构 ：
北京市汉坤律师事务所
代理人 ：
张琳琳
优先权 ：
CN202180005903.7
主分类号 ：
C07D405/14
IPC分类号 ：
C07D405/14 A61P35/00 A61P35/02 A61K31/506
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D405/00
杂环化合物，含有1个或多个以氧原子作为仅有的杂环原子的环，且含有1个或多个以氮原子作为仅有的杂环原子的环
C07D405/14
含3个或更多个杂环
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 405/14
申请日 : 20210810
申请日 : 20210810
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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