一种晶体生长电源参数的自适应调控方法及系统
授权
摘要
本发明公开了一种晶体生长电源参数的自适应调控方法及系统,所述方法包括:根据第一晶体生长电源,获得第一控制参数;获得第一粒径特征信息;将第一粒径特征信息和第一温度信息输入粒径变化趋势预测模型,获得第一粒径变化趋势信息;依据预设排序规则对所述趋势变化概率进行排序,获得第一排序结果;根据第一排序结果,获得第一粒径变化趋势;判断所述第一粒径变化趋势是否满足预设粒径变化趋势;若满足所述预设粒径变化趋势,控制所述第一晶体生长电源输出所述第一电压幅值、所述第一电流幅值、所述第一脉冲频率。解决了现有技术中存在未考虑到晶体本身状态变化及晶体炉内的温度差异性,导致灵活度较低,烧结失败的概率增加的技术问题。
基本信息
专利标题 :
一种晶体生长电源参数的自适应调控方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114046669A
申请号 :
CN202210014118.4
公开(公告)日 :
2022-02-15
申请日 :
2022-01-07
授权号 :
CN114046669B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
刘扬卢卫国许勇
申请人 :
江苏东方四通科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市张家港市杨舍镇张家港经济开发区(南区)
代理机构 :
苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司
代理人 :
吴筱娟
优先权 :
CN202210014118.4
主分类号 :
F27D19/00
IPC分类号 :
F27D19/00 C30B35/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D19/00
控制装置的配置
法律状态
2022-04-22 :
授权
2022-03-04 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : F27D 19/00
申请日 : 20220107
申请日 : 20220107
2022-02-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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