反射结构
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种反射结构，包括基板、发光元件、二第一反射器及二第二反射器。发光元件设于基板，且虚拟的参考轴平行基板并穿过发光元件的中心。二第一反射器分别设于发光元件相对两侧并垂直于参考轴。二第二反射器分别设于发光元件相对的另外两侧，且二第二反射器沿着长边方向延伸的轴与参考轴夹15至75度。
基本信息
专利标题 ：
反射结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114321838A
申请号 ：
CN202210016863.2
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-01-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李佳安林冠亨陈奕宏
申请人 ：
友达光电股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号
代理机构 ：
北京市立康律师事务所
代理人 ：
许志影
优先权 ：
CN202210016863.2
主分类号 ：
F21V7/00
IPC分类号 ：
F21V7/00 F21V7/10 F21Y115/10 F21W106/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F21
照明
F21V
照明装置或其系统的功能特征或零部件；不包含在其他类目中的照明装置和其他物品的结构组合物
F21V
照明装置或其系统的功能特征或零部件；不包含在其他类目中的照明装置和其他物品的结构组合物
F21V7/00
光源的反射器
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : F21V 7/00
申请日 : 20220107
申请日 : 20220107
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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