暗场共焦显微测量宽度定值方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种暗场共焦显微测量宽度定值方法,包括基于暗场共焦显微镜通过调节成像端的探测孔径获取的下表面准焦反射图像PR和下表面准焦散射图像PS。基于深沟槽暗场共焦显微成像模型计算沟槽下表面准焦强度像中沟槽边缘位置的归一化光强值IE，根据实际测量得到的下表面准焦反射图像PR以及光强值IE确定实际边缘位置值，获得反射探测模式下沟槽宽度定值结果；通过实际测量得到的下表面准焦散射图像Ps，通过高斯拟合沟槽边缘响应峰值位置值，获得散射探测模式下沟槽宽度定值结果；将反射探测模式与散射探测模式下的宽度定值结果加权平均作为沟槽宽度的最终测量值。为暗场共焦显微镜提供一种更为准确合理的沟槽宽度定值方法。
基本信息
专利标题 ：
暗场共焦显微测量宽度定值方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114383533A
申请号 ：
CN202210031996.7
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2022-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘俭刘辰光姜勇由小玉
申请人 ：
哈尔滨工业大学
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
代理机构 ：
北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
崔自京
优先权 ：
CN202210031996.7
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24 G01B11/30 G01B11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20220112
申请日 : 20220112
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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