一种光刻缺陷衍射光强差分检测方法
实质审查的生效
摘要
本发明属于光刻缺陷检测相关技术领域，其公开了一种光刻缺陷衍射光强差分检测方法，包括以下步骤：(1)构造入射照明矩阵P(m，n，U0)，扫描入射待测含缺陷光刻样品O(x，y)，获得待测含缺陷样品的近场电场分布U(ξ，η)；(2)获得待测含缺陷光刻样品的远场衍射光强分布I(x，y)矩阵；(3)求解远场衍射光强差分ΔI(x，y)；(4)对得到的远场衍射光强差分ΔI(x，y)进行灵敏度响应分析，并基于得到的灵敏度响应分析结果进行缺陷位置求解；(5)重复步骤(1)‑步骤(4)直至整个待测光刻样品被完整扫描检测完毕，并输出所有检出的缺陷位置矩阵MXY。本发明解决了现有光刻缺陷检测技术检测范围受限及检测效率低的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻缺陷衍射光强差分检测方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509921A
申请号 ：
CN202210039385.7
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2022-01-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谷洪刚陈创创刘世元周玉
申请人 ：
华中科技大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 ：
华中科技大学专利中心
代理人 ：
孔娜
优先权 ：
CN202210039385.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220113
申请日 : 20220113
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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