深紫外DUV连续波CW激光及产生DUV CW激光辐射的方...
实质审查的生效
摘要
本申请实施例涉及深紫外DUV连续波CW激光及产生DUV CW激光辐射的方法。一种深紫外DUV连续波CW激光包含：基波CW激光，其经配置以产生具有在约1μm与1.1μm之间的对应波长的基波频率；三次谐波产生器模块，其包含一或多个周期性极化的非线性光学NLO晶体，NLO晶体产生三次谐波及任选的二次谐波；及四次谐波产生器模块及五次谐波产生器中的一者。四次谐波产生器模块包含经配置以使基波频率与三次谐波组合以产生四次谐波的以基波频率谐振的腔。四次谐波产生器模块包含用于使基波频率与三次谐波组合以产生五次谐波的以基波频率谐振的腔或用于使二次谐波与三次谐波组合以产生五次谐波的以二次谐波频率谐振的腔。
基本信息
专利标题 ：
深紫外DUV连续波CW激光及产生DUV CW激光辐射的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114389139A
申请号 ：
CN202210041743.8
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2014-06-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
勇-霍·庄陆晓旭约翰·费尔登
申请人 ：
科磊股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
张世俊
优先权 ：
CN202210041743.8
主分类号 ：
H01S3/109
IPC分类号 ：
H01S3/109 H01S3/00 G02F1/35 G02F1/355
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 3/109
申请日 : 20140611
申请日 : 20140611
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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