一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺
公开
摘要
本发明涉及钕铁硼磁体技术领域，尤其涉及一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺，包括以下步骤：S1、打磨；S2、除油清洗；S3、酸洗；S4、表调处理；S5、活化处理；S6、电镀镍处理：电镀液包括以下组分：硫酸镍100～110g/L、氯化镍60～80g/L、硫酸钠20～50g/L、硼酸40～60g/L、十二烷基硫酸钠0.05～0.1g/L；且电镀液的pH值为4.0～5.0，电镀处理的时间为30～60min，温度为60～65℃，电流密度为0.5～0.6A/dm2，镀层厚度为2～6微米；S7、化学镀镍钨磷合金处理；S8、固化处理，该镀层工艺操作简便，镀层过程中，所用的试剂对环境危害小，复合镀层对磁体的热减磁率几乎没有影响，且复合镀层与基体的结合力非常好，不容易脱落，钕铁硼磁体的耐腐蚀性有很大提高。
基本信息
专利标题 ：
一种钕铁硼磁体的表面镀层工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114381773A
申请号 ：
CN202210048141.5
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林建强贺琦军
申请人 ：
宁波招宝磁业有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市镇海区城关后海塘工业区定海路66号
代理机构 ：
上海互顺专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韦志刚
优先权 ：
CN202210048141.5
主分类号 ：
C25D5/36
IPC分类号 ：
C25D5/36 C25D7/00 C25D3/12 C23C18/48 C23C28/02 H01F41/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀；工件的预处理或后处理
C25D5/34
施镀金属表面的预处理
C25D5/36
铁或钢的
法律状态
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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