具有良好止水效果的基坑斜向支撑结构及其施工方法
公开
摘要
本发明公开了一种具有良好止水效果的基坑斜向支撑结构及其施工方法,旨在提供一种不仅结构简单、施工效率高,能够有效控制基坑底部围护结构变形;而且能够有效解决因斜向支撑直接穿越地下室外墙,而造成的地下室进水问题的具有良好止水效果的基坑斜向支撑结构及其施工方法。具有良好止水效果的基坑斜向支撑结构,包括斜向钢支撑柱、沿基坑的边缘分布的围护桩、位于围护桩内侧的地下室外墙及在基坑的坑底浇筑形成的混凝土垫层,所述斜向钢支撑柱的下端埋设在混凝土垫层内,斜向钢支撑柱的上端穿过地下室外墙并支撑在围护桩上,所述斜向钢支撑柱上设有外墙止水板,外墙止水板埋设在地下室外墙内。
基本信息
专利标题 :
具有良好止水效果的基坑斜向支撑结构及其施工方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114622570A
申请号 :
CN202210055345.1
公开(公告)日 :
2022-06-14
申请日 :
2022-01-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黄天明王涛竹相黄星迪李健平朱海娣方华建邓以亮娄泽丰
申请人 :
东通岩土科技股份有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市江干区创智绿谷发展中心6幢1101室
代理机构 :
杭州杭诚专利事务所有限公司
代理人 :
陈勇
优先权 :
CN202210055345.1
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04 E02D31/02 E02D5/46 E02D15/02 E02D29/045 E02D19/06
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2022-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载