下垫面反射辐射测量装置和测量方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种下垫面反射辐射测量装置和测量方法，包括：机架；旋转轴，其两端转动连接于旋转轴固定架，所述旋转轴固定架固定在所述机架的上端；第一太阳总辐射照度测量器，其固定于所述旋转轴；第二太阳总辐射照度测量器，其固定于所述旋转轴，与所述第一太阳总辐射照度测量器朝向同侧设置；和遮光板，其固定设置于所述第一太阳总辐射照度测量器的下方。本发明通过第一、第二太阳总辐射照测量装置测量值作差的方式，以实现对某一角度平面所接受的下垫面反射辐射照度的测量。通过伺服电机驱动同步带，同步带带动旋转轴的方式，以实现对0‑360°任一角度平面所接受的下垫面反射辐射照度的测量。
基本信息
专利标题 ：
下垫面反射辐射测量装置和测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114485929A
申请号 ：
CN202210056443.7
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尹凯丽谢静超张晓静郑智淼徐鑫刘加平
申请人 ：
北京工业大学
申请人地址 ：
北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 ：
北京华专卓海知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张继鑫
优先权 ：
CN202210056443.7
主分类号 ：
G01J1/42
IPC分类号 ：
G01J1/42 G01J1/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法，例如照相的曝光表
G01J1/42
采用电辐射检测器
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 1/42
申请日 : 20220118
申请日 : 20220118
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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