具有磁性反射层成像单元的光学成像元件及其制备方法
授权
摘要
本发明提供具有磁性反射层成像单元的光学成像元件及其制备方法,光学成像元件包括若干个叠加的光学成像单元,光学成像单元包括上层透光层叠体和下层透光层叠体,上层透光层叠体和下层透光层叠体均为若干个带有反射层的透光条并列组成,上层透光层叠体中的第一透光条方向与下层透光层叠体中的第二透光条方向呈垂直相交设置;反射层为三明治层叠金属磁性薄层,包括第一金属铝层、中央磁性层和第二金属铝层。本发明能够形成积木结构的二元磁光光子晶体,或在多个光学成像单元叠放时形成三元磁光光子晶体结构,在禁带边缘的非互易效应达到最大,利用非互易相移区域实现了不需要巨大的厚度就可以实现非互易相移区域,降低光损耗,提高折射成像准确度。
基本信息
专利标题 :
具有磁性反射层成像单元的光学成像元件及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114089445A
申请号 :
CN202210057106.X
公开(公告)日 :
2022-02-25
申请日 :
2022-01-19
授权号 :
CN114089445B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
郝雅棋张兵
申请人 :
像航(如东)科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市如东经济开发区牡丹江路159号
代理机构 :
北京挺立专利事务所(普通合伙)
代理人 :
余莹
优先权 :
CN202210057106.X
主分类号 :
G02B1/00
IPC分类号 :
G02B1/00 C09J151/00 C09J11/04 C08F265/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层
法律状态
2022-04-29 :
授权
2022-03-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/00
申请日 : 20220119
申请日 : 20220119
2022-02-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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