一种低温下制备高纯度酞菁的方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种低温下制备高纯度酞菁的方法，所述方法包括如下步骤：取适量邻苯二甲腈类化合物和适量六甲基二硅基氨基锂溶解在溶剂中；充入惰性气体保护，并维持低温环境反应若干时间；加入醇类进行淬灭反应，抽滤冲洗后得到酞菁类化合物，该种方法利用LiHDMS作为反应原料，其较高的活性可以保证邻苯二甲腈在低温下可以顺利反应成酞菁；同时LiHDMS的超大位阻效应，可以有效保证不与邻苯二甲腈类衍生物反应，结合低温的反应环境，进一步保证了反应产品的纯度，最终的酞菁类产品可以直接通过过滤得到97.5％以上的高纯度。
基本信息
专利标题 ：
一种低温下制备高纯度酞菁的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114315843A
申请号 ：
CN202210064200.8
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-01-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郑玮彭雨新
申请人 ：
南京艾姆材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江北新区宁六路606号A栋309、311、315/317、316、319室
代理机构 ：
新余市渝星知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
廖平
优先权 ：
CN202210064200.8
主分类号 ：
C07D487/22
IPC分类号 ：
C07D487/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D487/00
在稠环系中含有氮原子作为仅有的杂环原子的杂环化合物，不包含在C07D451/00至C07D477/00组中
C07D487/22
稠环系中含有4个或更多个杂环
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 487/22
申请日 : 20220120
申请日 : 20220120
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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