一种大视野显微成像方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种大视野显微成像方法，使用如下的显微成像系统,系统包括光源组件、光路组件和成像装置；光路组件包括第一偏振片、载物平台、物镜、偏振分光器件、第二偏振片、筒镜；第一偏振片的一侧是能让S偏振光透过的S偏振部另一侧是能让P偏振光透过的P偏振部，第一偏振片设置在光源组件和载物平台之间并处在光源组件所发射光的光路上；物镜安装在第一偏振片所透过光的光路上；成像装置包括第一成像装置和第二成像装置，第一成像装置、第二成像装置和偏振分光器件之间均设有处在对应光路上的筒镜和第二偏振片。该发明降低了设备硬件成本、能使用低像素探测器实现大视野的显微成像。
基本信息
专利标题 ：
一种大视野显微成像方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114384020A
申请号 ：
CN202210066313.1
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2022-01-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周藩陈海东陈鑫
申请人 ：
深圳铭毅智造科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区坪山街道和平社区兰金四路19号华瀚科技工业园厂房2栋321
代理机构 ：
深圳市科冠知识产权代理有限公司
代理人 ：
孔丽霞
优先权 ：
CN202210066313.1
主分类号 ：
G01N21/21
IPC分类号 ：
G01N21/21
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
法律状态
2022-05-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/21
申请日 : 20220120
申请日 : 20220120
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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