一种送粉机构、送粉器和喷涂设备
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摘要
本发明公开了一种送粉机构、送粉器和喷涂设备，所述送粉机构包括储粉腔体（1），储粉腔体（1）上方设有粉末入口（10）和加热气体入口（11），储粉腔体（1）内设有粉刷，粉刷包括旋转体（3）以及固定在旋转体（3）上的刷体（2）；旋转体（3）在驱动机构（6）的驱动下沿旋转轴（4）自转；粉刷下方设有筛网（5），筛网（5）与储粉腔体（1）连接；粉刷表面凸起的刷体（2）接触到储粉腔体（1）内表面，对不同粒径的粉末采用不用的刷体材料搭配，本发明可精确控制送粉速率，实现微小量并均匀送粉，增大了送粉粒径范围，对粉末的流动性无要求，适用于各种粉末的输送。
基本信息
专利标题 ：
一种送粉机构、送粉器和喷涂设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114107946A
申请号 ：
CN202210068788.4
公开（公告）日 ：
2022-03-01
申请日 ：
2022-01-21
授权号 ：
CN114107946B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
郭洪波何雯婷彭徽魏亮亮
申请人 ：
北京航空航天大学
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路37号
代理机构 ：
北京天汇航智知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄川
优先权 ：
CN202210068788.4
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/50 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2022-03-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/44
申请日 : 20220121
申请日 : 20220121
2022-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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