基于反射面天线焦面场采样相控阵馈源的最优化设计方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种基于反射面天线焦面场采样相控阵馈源的最优化设计方法,它涉及通信、测控以及射电天文等领域中的高性能多波束天线技术,旨在提供一种高效率和低通道数的高性价比的相控阵馈源设计方法。本发明方法通过分析不同焦径比和不同扫描角时反射面天线焦平面场的特性,研究焦面场最优采样时相控阵馈源的参数选取原则,总结了天线口径效率与PAF设计参数之间的关系,给出了相控阵馈源最优单元间距与焦径比的关系曲线,导出了PAF单元数量的计算公式,并给出了一个PAF的设计实例和性能分析,验证了设计方法的有效性。该方法适合用于射电天文、卫星通信以及深空探测等领域馈源的设计。

基本信息
专利标题 :
基于反射面天线焦面场采样相控阵馈源的最优化设计方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114372380A
申请号 :
CN202210069846.5
公开(公告)日 :
2022-04-19
申请日 :
2022-01-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘胜文伍洋田佳怿杜彪王超
申请人 :
中国电子科技集团公司第五十四研究所
申请人地址 :
河北省石家庄市中山西路589号第五十四所天线伺服专业部
代理机构 :
河北东尚律师事务所
代理人 :
王文庆
优先权 :
CN202210069846.5
主分类号 :
G06F30/20
IPC分类号 :
G06F30/20  G06F111/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-05-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/20
申请日 : 20220121
2022-04-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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