消除DMD杂散光的投影成像装置
实质审查的生效
摘要
本发明涉及投影成像装置,具体为消除DMD杂散光的投影成像装置。本发明的目的在于提供一种适用于体积较小、波长较长的DMD且能消除DMD杂散光的投影成像装置,包括激光光源,激光光源发出面光源入射至中继系统,经过中继系统的光源平行入射微透镜阵列,经过微透镜阵列将面光源整形后变成点光源后再入射至TIR棱镜,然后经TIR棱镜后入射至DMD,经DMD反射后将图像投影至成像系统,从而使得DMD无衍射。本发明通过微透镜阵列缩小了DMD的入射光斑,从源头上杜绝了DMD闪耀光栅衍射,将衍射产生的杂散光提前屏蔽于DMD之外,提高了投影成像装置的成像质量和图像对比度,效果显著且简便。
基本信息
专利标题 :
消除DMD杂散光的投影成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442333A
申请号 :
CN202210077091.3
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-01-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈海洋魏勇王虹兰旭阳胡元元
申请人 :
山西汉威激光科技股份有限公司
申请人地址 :
山西省太原市正阳街51号3号厂房
代理机构 :
太原科卫专利事务所(普通合伙)
代理人 :
王二红
优先权 :
CN202210077091.3
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09 G03B21/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/09
申请日 : 20220122
申请日 : 20220122
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载