RNA 5-甲基胞嘧啶修饰在剪接异构体上的定量分析方法
公开
摘要
本发明公开了一种表观遗传领域的数据分析方法：RNA 5‑甲基胞嘧啶修饰在剪接异构体上的定量分析方法。该方法能够解决如何在基因剪接异构体层面上定量分析RNA 5‑甲基胞嘧啶修饰的问题，其技术要点包括：将RNA‑BSseq测序技术产生的数据集转换为虚拟RNA‑Seq数据集并对其中发生RNA 5‑甲基胞嘧啶修饰的数据进行标注；估计剪接异构体在虚拟数据集中的表达量，并采用bootstrap技术计算其均值和方差；估计剪接异构体RNA 5‑甲基胞嘧啶修饰水平，并采用Delta技术计算剪接异构体RNA 5‑甲基胞嘧啶修饰水平的均值和方差；基于正态分布检验剪接异构体在不同条件下估计的RNA 5‑甲基胞嘧啶修饰水平是否存在显著性差异。本发明有助于揭示RNA 5‑甲基胞嘧啶修饰在生理过程和病理变化中的调控机制。
基本信息
专利标题 ：
RNA 5-甲基胞嘧啶修饰在剪接异构体上的定量分析方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114582421A
申请号 ：
CN202210077220.9
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘俊锋
申请人 ：
刘俊锋
申请人地址 ：
北京市海淀区苏州街大河庄苑9号楼508
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202210077220.9
主分类号 ：
G16B25/00
IPC分类号 ：
G16B25/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G16
特别适用于特定应用领域的信息通信技术
G16B
生物信息学，例如特别适用于计算分子生物学中的遗传或蛋白质相关数据处理的信息与通信技术
G16B25/00
特别适用于杂交的ICT；特别适用于基因或蛋白表达的ICT
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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