网络型薄膜膜及其形成方法
公开
摘要
本公开涉及网络型薄膜膜及其形成方法。提供了一种用于保护光掩模免受污染物颗粒影响的薄膜。该薄膜包括含有至少一个多孔膜的薄膜膜。至少一个多孔膜包括多个纳米管的网络。多个纳米管中的至少一个纳米管包括核纳米管和围绕核纳米管的壳纳米管。核纳米管包括不同于壳纳米管的材料。薄膜还包括沿着薄膜膜的外围区域附接到薄膜膜的薄膜边界以及附接到薄膜边界的薄膜框架。
基本信息
专利标题 ：
网络型薄膜膜及其形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609859A
申请号 ：
CN202210107786.1
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-01-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
许倍诚连大成李信昌
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
朱亦林
优先权 ：
CN202210107786.1
主分类号 ：
G03F1/62
IPC分类号 ：
G03F1/62 G03F1/64 G03F1/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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