基于光干涉原理的材料光致形变系数测量装置及方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种基于光干涉原理的材料光致形变系数测量装置和方法。包括：干涉光源：用于发射干涉光；激发光源：用于发射诱导材料变形的激发光；半反半透镜：设置在干涉光源的出射光路上；平面镜：设置在半反半透镜的透射光路上。干涉光源发射光经过半反半透镜、待检测材料后，可在观测屏上形成干涉条纹。通过比较待检测材料变形前和变形后的干涉图像，计算材料的光致形变系数。该装置成本低、携带方便，操作便捷，该方法可精确快速测量光致形变系数。
基本信息
专利标题 ：
基于光干涉原理的材料光致形变系数测量装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114440785A
申请号 ：
CN202210118263.7
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2022-02-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吕英波宋怡娴史晓影万珍珍于淦
申请人 ：
山东大学
申请人地址 ：
山东省威海市文化西路180号
代理机构 ：
青岛清泰联信知识产权代理有限公司
代理人 ：
张媛媛
优先权 ：
CN202210118263.7
主分类号 ：
G01B11/16
IPC分类号 ：
G01B11/16 G01N21/63 G01N21/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/16
用于计量固体的变形，例如光学应变仪
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/16
申请日 : 20220208
申请日 : 20220208
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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