小型管式炉除水除氧系统
公开
摘要
本发明公开了小型管式炉除水除氧系统，包括除水除氧箱和晶体生长机构，所述除水除氧箱的内部中空且除水除氧箱的内腔上部设有控制机，除水除氧箱内腔中还设有净化循环机构；所述净化循环机构包括除水除氧箱内底壁上固定安装的循环风机和再生桶，所述循环风机的进气端上贯通连接有循环风机进气管，循环风机进气管向外侧延伸贯通除水除氧箱的侧壁并延伸至除水除氧箱外腔，所述再生桶出气端上贯通连接有再生桶出气管。本发明设计新颖，结构紧凑，大大提高了晶体生长的质量和速度，极大的保证了晶体生长的良好气体氛围，并且填补了小型管式炉除水除氧的技术空白，极大地提高了国内晶体生长实验的实验能力。
基本信息
专利标题 ：
小型管式炉除水除氧系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114622271A
申请号 ：
CN202210124126.4
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-02-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
方辉王伟邾根祥江晓平
申请人 ：
合肥科晶材料技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区柏堰科技园团山路8号
代理机构 ：
合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李蕾
优先权 ：
CN202210124126.4
主分类号 ：
C30B15/00
IPC分类号 ：
C30B15/00 C30B15/20 F27B17/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长，例如Czochralski法
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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