一种晶圆冷却装置及电镀设备
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种晶圆冷却装置及电镀设备,其中,晶圆冷却装置包括冷却腔体、固态冷却机组及气体吹扫系统;固态冷却机组与冷却腔体的腔壁接触,冷却腔体的内部设置有多个晶圆放置架,冷却腔体和晶圆放置架均采用导热基板制成;气体吹扫系统包括若干个进气孔,若干个进气孔设置于冷却腔体的腔壁并面向晶圆放置架设置。本发明采用传导冷却和对流冷却相结合的方式,晶圆的冷却效率更高,相关工艺制程更快,且相较于单一的传导冷却方式,晶圆在降温过程中的表面温度更加均匀,从而还对保证晶圆的工艺良率有积极意义,并且,本发明支持多张晶圆的冷却加工,打破了晶圆冷却时间慢而对晶圆产能的限制。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆冷却装置及电镀设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114517329A
申请号 :
CN202210135631.9
公开(公告)日 :
2022-05-20
申请日 :
2022-02-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
史蒂文·贺·汪刘立安王亦天
申请人 :
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
申请人地址 :
上海市松江区思贤路3600号
代理机构 :
北京市盈科律师事务所
代理人 :
陈晨
优先权 :
CN202210135631.9
主分类号 :
C25D21/02
IPC分类号 :
C25D21/02  C25D17/00  H01L21/67  H01L21/673  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/02
加热或冷却
法律状态
2022-06-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 21/02
申请日 : 20220214
2022-05-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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