一种基于UV固化原位形成的遮光垫圈胶及其制备方法
公开
摘要
本发明公开了一种基于UV固化原位形成的遮光垫圈胶及其制备方法，涉及胶黏剂技术领域。本发明在制备的基于UV固化原位形成的遮光垫圈胶时，先将含氢硅油和炭黑反应后用硫酸和硝酸进行活化组装制得改性硅油炭黑，将4‑氯二苯甲酮配制成光引发溶液并与改性硅油炭黑反应制得光引发炭黑，将钛酸四丁酯和正硅酸乙酯反应制得多孔硅钛复合氧化物，将多孔硅钛复合氧化物和丙烯酸反应制得改性多孔硅钛复合氧化物，将树脂、活性单体、光引发炭黑和改性多孔硅钛复合氧化物混合制得基于UV固化原位形成的遮光垫圈胶。本发明制备的基于UV固化原位形成的遮光垫圈胶具有优异的阻燃性能和耐磨性能。
基本信息
专利标题 ：
一种基于UV固化原位形成的遮光垫圈胶及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114621693A
申请号 ：
CN202210161346.4
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-02-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李志明陈玉发
申请人 ：
上谷新材料(苏州)有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区兴浦路333号苏州纳米城II区纳米健康产业园2号楼407室
代理机构 ：
南京乐羽知行专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
缪友建
优先权 ：
CN202210161346.4
主分类号 ：
C09J4/06
IPC分类号 ：
C09J4/06 C09J4/02 C09J11/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J4/00
基于至少具有1个可聚合的碳-碳不饱和键的非高分子有机化合物的黏合剂
C09J4/06
与除C09J159/00至C09J187/00组的不饱和聚合物外的高分子化合物组合
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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