一种高击穿强度芳纶隔膜及其制备方法和应用
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摘要
本发明提供了一种高击穿强度芳纶隔膜及其制备方法和应用，涉及隔膜技术领域，所述高击穿强度芳纶隔膜包括基膜和设置于所述基膜单侧或双侧的芳纶涂层；所述芳纶涂层的外层呈密实状多孔结构，所述芳纶涂层的内部呈纤维状多孔结构；所述高击穿强度芳纶隔膜的芳纶涂层透气度增加值为20‑30s/100cc/μm，所述高击穿强度芳纶隔膜的芳纶涂层击穿强度为0.24‑0.3kv/μm。本发明可在不异常增加芳纶涂覆隔膜透气度的基础上提高隔膜的耐击穿强度，提高安全性能。
基本信息
专利标题 ：
一种高击穿强度芳纶隔膜及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114243093A
申请号 ：
CN202210174186.7
公开（公告）日 ：
2022-03-25
申请日 ：
2022-02-25
授权号 ：
CN114243093B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
张影刘杲珺张绪杰李论贾国重吴奇阳徐梦白耀宗甘珊珊
申请人 ：
湖南中锂新材料科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市宁乡高新技术产业园区金水东路188号
代理机构 ：
长沙国科天河知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭小兰
优先权 ：
CN202210174186.7
主分类号 ：
H01M10/0525
IPC分类号 ：
H01M10/0525 H01M50/403 H01M50/417 H01M50/423 H01M50/44 H01M50/449 H01M50/454 H01M50/489 H01M50/491 H01G11/52 H01G11/84
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法律状态
2022-05-13 ：
授权
2022-04-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01M 10/0525
申请日 : 20220225
申请日 : 20220225
2022-03-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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