一种耦合装置、光学成像系统以及耦合方法
实质审查的生效
摘要

本申请实施例公开了一种耦合装置、光学成像系统以及耦合方法。该装置:通过至少一个第一超透镜设置在至少一个第一光纤和至少一个第二光纤之间,第一超透镜包括第一端面和第二端面,第一端面与至少一个第一光纤的一端面连接,第二端面与至少一个第二光纤的一端面连接,光从第一端面入射的光的模场形状和从第二端面出射的光的模场形状不同,光从第二端面出射的光的模场形状与至少一个第二光纤上的模场形状相同,以及光从第二端面出射的光的数值孔径与至少一个第二光纤上的数值孔径相同,从而实现了光纤和光纤耦合时,使得光纤中耦合时的模场形状相同,且光纤中耦合时的数值孔径相同,使得耦合效率提高。

基本信息
专利标题 :
一种耦合装置、光学成像系统以及耦合方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114280739A
申请号 :
CN202210207324.7
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2022-03-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孙磊邱兵杨新征
申请人 :
天津山河光电科技有限公司
申请人地址 :
天津市滨海新区经济技术开发区滨海-中关村科技园华塘睿城一区3号楼二层B区015号
代理机构 :
北京墨丘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
唐忠仙
优先权 :
CN202210207324.7
主分类号 :
G02B6/42
IPC分类号 :
G02B6/42  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/24
光波导的耦合
G02B6/42
光波导与光电元件的耦合
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 6/42
申请日 : 20220304
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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