适用于Display Dry Etcher的高密度阳极膜...
公开
摘要
本发明公开了一种适用于Display Dry Etcher的高密度阳极膜制备工艺，属于上部电极阳极氧化工艺技术领域，首先配置电解液，然后对基材进行前处理；最后进行采用分段升流方式对基材进行阳极氧化，整流方式采用直流、交流加脉冲的方式进行，交流输出时间为0～300s，直流输出时间为0～300s，脉冲电流的输出时间为0～100s，其中直流电和交流电之间交替式输出，根据设定的频率同时叠加脉冲电流，其中所述交流电的输出比例范围为30％～50％，所述直流电的输出比例范围为70％～50％，所述交流电和直流电的频率均为50HZ～100HZ，所述脉冲的频率为50～100HZ。采用本发明工艺，可以保证获得性能良好的阳极膜膜厚，可改善产品局部(尤指倒角处)部位上的基材与阳极膜结合薄弱的缺陷。
基本信息
专利标题 ：
适用于Display Dry Etcher的高密度阳极膜制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114592226A
申请号 ：
CN202210219536.7
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李玉琼陈立航郑东日王承波刘晓松朴永元杨佐东
申请人 ：
重庆臻宝实业有限公司
申请人地址 ：
重庆市九龙坡区西彭镇森迪大道66号附72号
代理机构 ：
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭泽培
优先权 ：
CN202210219536.7
主分类号 ：
C25D11/04
IPC分类号 ：
C25D11/04 C25D11/10 C25D11/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D11/00
表面反应，即形成转化层的电解覆层
C25D11/02
阳极氧化
C25D11/04
铝或以其为基之合金的
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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