一种抗光幕、设备以及制备方法
公开
摘要
本发明提供了一种抗光幕、设备以及制备方法，包括：基材，采用PET材料制成，呈透明状；微结构层，设置在基材一侧，所述微结构层的背离所述基材的一侧设置有微结构，微结构由多个第一锯齿状结构组成，多个第一锯齿状结构上下排列，每个第一锯齿状结构沿着水平方向延伸；反光层，设置在微结构层的背离所述基材一侧；第一吸光层，设置在基材的背离所述微结构层一侧；不同的第一锯齿状结构的形状和/或尺寸至少部分地不同，和/或，每个第一锯齿状结构沿着其延伸方向不同位置处的形状和/或尺寸至少部分地不同。该抗光幕的微结构的形状和尺寸不同，使抗光幕的表面产生漫反射，进而能够避免出现反光，提高显示效果。
基本信息
专利标题 ：
一种抗光幕、设备以及制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624949A
申请号 ：
CN202210225569.2
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-03-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘俊
申请人 ：
广州西岛电子科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市增城区新塘镇官湖村委会石新大道163
代理机构 ：
北京中济纬天专利代理有限公司
代理人 ：
陈友
优先权 ：
CN202210225569.2
主分类号 ：
G03B21/60
IPC分类号 ：
G03B21/60
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/54
附件
G03B21/56
放映屏幕
G03B21/60
以表面特性为特征的
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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