一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法
公开
摘要

本发明公开了一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺材料及制备方法,所述制备方法先将1,4‑双(4‑氨基‑2‑三氟甲基苯氧基)苯溶于无水N,N‑二甲基乙酰胺中,在0℃水浴中搅拌至充分溶解,再加入六氟二酐使其充分反应,后分别滴加三种不同的离子液体,充分掺杂混合得到透明聚酰胺酸,最后置于真空干燥箱中梯度升温,充分热酰亚胺化得到透明聚酰亚胺材料。该方法制备的透明聚酰亚胺材料光学性能优异,柔韧度强,其中掺杂1‑乙基‑3‑甲基咪唑双三氟甲基磺酰亚胺离子液体的聚酰亚胺光学和机械性能最优,且具有良好的抗电子辐照与应力场耦合作用的性能。该方法反应条件温和,制备工艺简易,操作成本低廉,可用于大规模生产。

基本信息
专利标题 :
一种抗电子辐照与应力场耦合的透明聚酰亚胺及制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114591626A
申请号 :
CN202210258302.3
公开(公告)日 :
2022-06-07
申请日 :
2022-03-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杨洪朱晓晴王猛侯燚周正峰胡文婷
申请人 :
东南大学
申请人地址 :
江苏省南京市江宁区东南大学路2号
代理机构 :
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
柏尚春
优先权 :
CN202210258302.3
主分类号 :
C08L79/08
IPC分类号 :
C08L79/08  C08J5/18  C08G73/10  G02B1/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L79/00
不包括在C08L61/00至C08L77/00组内的,由只在主链中形成含氮的,有或没有氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物
C08L79/04
在主链中具有含氮杂环的缩聚物;聚酰肼;聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08L79/08
聚酰亚胺;聚酯-酰亚胺;聚酰胺-酰亚胺;聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
法律状态
2022-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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