一种镀镍用自动排料设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种镀镍用自动排料设备，属于镀镍溶液排料领域，一种镀镍用自动排料设备，包括电镀池、排液处理罐、存液池，所述电镀池的内侧面设置有溶液池，所述溶液池的底面固定连接有传感器，所述电镀池的底侧面固定连接有阀门，所述电镀池的侧面开设有排液口，所述电镀池的侧面设置有用于处理镀液原料中杂质的排液处理罐，所述排液处理罐的底侧固定连接有用于存放排出液体的存液池，所述存液池的内侧设置有置液池，本新型实用的特征为，可以实现能够在液体排出的过程中，将镀液内所含杂质过滤收集，将固体杂质从液体中分离出来，避免影响对溶液PH值处理的影响。
基本信息
专利标题 ：
一种镀镍用自动排料设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220110882.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
CN216550803U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
谢春旭曾杨徐增
申请人 ：
武汉博航电子科技有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武汉经济技术开发区12C2地块武汉经开万达广场B区S5-3栋30层B3-15室(商务秘书WYLM-154)
代理机构 ：
湖北权上知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
章胜强
优先权 ：
CN202220110882.7
主分类号 ：
C25D21/00
IPC分类号 ：
C25D21/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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