医疗电子X射线摄影用卤化稀碱荧光体
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
本发明研究出了一种医用电子X射线摄影用卤化稀碱荧光体。叙述了真空蒸镀荧光体到硒基板上的工艺；它具有温度低，不必使用电子束流轰击等优点。
基本信息
专利标题 ：
医疗电子X射线摄影用卤化稀碱荧光体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85100259A
申请号 ：
CN85100259.5
公开（公告）日 ：
1986-07-16
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN1003599B
授权日 ：
1989-03-15
发明人 ：
何喜庆蒋昌武吴琳琍杜秀珍陈纯
申请人 ：
武汉大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市武昌珞珈山
代理机构 ：
武汉大学专利事务所
代理人 ：
余鼎章
优先权 ：
CN85100259.5
主分类号 ：
C09K11/86
IPC分类号 ：
C09K11/86 C23C14/06 G03C1/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K11/00
发光材料，例如电致发光材料、化学发光材料
C09K11/08
含无机发光材料
C09K11/77
含稀土金属
C09K11/86
含氧和卤素，如卤氧化物
法律状态
1991-08-07 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1989-11-29 ：
授权
1989-03-15 ：
审定
1987-08-19 ：
实质审查请求
1986-07-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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