四氟乙烯和偏氟乙烯共聚物的薄膜、制备方法及应用
视为撤回的专利申请
摘要
一种四氟乙烯和偏氟乙烯共聚物的薄膜，该薄膜的厚度为2-8微米。共聚物组成为含有8-50％重量的四氟乙烯和92-50％重量的偏氟乙烯。生产这种薄膜的方法包括用C3-C4脂肪酰胺，如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺，C3-C6脂肪酮，如丙酮、丁酮等溶剂中的二种或二种以上溶剂溶介上述的共聚物、配成重量为0.5-2％的溶液再浇铸成膜。该薄膜可以复合在强度低、脆性的材料上，扩大它们的使用范围。
基本信息
专利标题 ：
四氟乙烯和偏氟乙烯共聚物的薄膜、制备方法及应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85100445A
申请号 ：
CN85100445.8
公开（公告）日 ：
1986-07-09
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周仁沫
申请人 ：
中国科学院上海有机化学研究所
申请人地址 ：
上海市零陵路345号
代理机构 ：
中国科学院上海有机化学研究所专利办公室
代理人 ：
邬震中
优先权 ：
CN85100445.8
主分类号 ：
C08J5/18
IPC分类号 ：
C08J5/18 B32B27/28
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/18
薄膜或片材的制造
法律状态
1991-07-24 ：
视为撤回的专利申请
1988-08-31 ：
实质审查请求
1986-07-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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