四氟乙烯和偏氟乙烯共聚物的薄膜、制备方法及应用
视为撤回的专利申请
摘要
一种四氟乙烯和偏氟乙烯共聚物的薄膜,该薄膜的厚度为2-8微米。共聚物组成为含有8-50%重量的四氟乙烯和92-50%重量的偏氟乙烯。生产这种薄膜的方法包括用C3-C4脂肪酰胺,如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺,C3-C6脂肪酮,如丙酮、丁酮等溶剂中的二种或二种以上溶剂溶介上述的共聚物、配成重量为0.5-2%的溶液再浇铸成膜。该薄膜可以复合在强度低、脆性的材料上,扩大它们的使用范围。
基本信息
专利标题 :
四氟乙烯和偏氟乙烯共聚物的薄膜、制备方法及应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN85100445A
申请号 :
CN85100445.8
公开(公告)日 :
1986-07-09
申请日 :
1985-04-01
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
周仁沫
申请人 :
中国科学院上海有机化学研究所
申请人地址 :
上海市零陵路345号
代理机构 :
中国科学院上海有机化学研究所专利办公室
代理人 :
邬震中
优先权 :
CN85100445.8
主分类号 :
C08J5/18
IPC分类号 :
C08J5/18 B32B27/28
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08J
加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/18
薄膜或片材的制造
法律状态
1991-07-24 :
视为撤回的专利申请
1988-08-31 :
实质审查请求
1986-07-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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