光降解聚乙烯薄膜及其用途

专利权的终止专利权有效期届满

摘要

本发明属于光降解聚乙烯薄膜的光敏催化剂及用途。该光敏催化剂是一类分子式为-R的长链取代基二茂铁衍生物，式中R′＝H或R，R＝C7-C11烷基、烯基、羧酸基、羧酸酯基，或COR″而R″为C6-C10烷基、烯基、羧酸基或羧酸酯基。用一种或二种以上的这类光敏催化剂能生产可控光降解聚乙烯薄膜，催化剂的添加量为0.01-0.5％(重量)。膜厚度为3-15微米。这种光降解薄膜可用作农作物复盖地膜。

基本信息

专利标题：

光降解聚乙烯薄膜及其用途

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN85100494A

申请号：

CN85100494.6

公开（公告）日：

1986-08-13

申请日：

1985-04-01

授权号：

CN1015465B

授权日：

1992-02-12

发明人：

唐松青徐思羽黄根龙唐大森李良发王剑良丁宏勋郑炳昌顾振宗陈玉书陶云龙陶宏马启正钟

申请人：

中国科学院上海有机化学研究所;中国石油化工总公司上海石油化工总厂

申请人地址：

上海市零陵路345号

代理机构：

中国科学院上海有机化学研究所专利办公室

代理人：

邬震中

优先权：

CN85100494.6

主分类号：

C08L23/06

IPC分类号：

C08L23/06 C08K5/56 A01G13/02