光谱选择性吸收黑铝涂层及制造方法
驳回的专利申请
摘要
本发明属于涂层材料和制造方法。通过采用真空镀膜工艺，控制蒸镀时的气氛和压力，制备一种具有光谱选择特性好的黑铝镀层。该涂层的太阳能吸收率大于0.87，红外热发射率大于0.13且可适金属、玻璃及有机材料等多种类型的底材，具有制备工艺简单，可实现大面积连续生产等优点，是一种有广泛应用前景的太阳能光热利用材料。
基本信息
专利标题 ：
光谱选择性吸收黑铝涂层及制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85100509A
申请号 ：
CN85100509.8
公开（公告）日 ：
1986-08-13
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
胡行方秦淑引田静芬胡美凤
申请人 ：
中国科学院上海硅酸盐研究所
申请人地址 ：
上海市长宁路865号
代理机构 ：
中国科学院上海专利事务所
代理人 ：
潘振甦
优先权 ：
CN85100509.8
主分类号 ：
C23C14/14
IPC分类号 ：
C23C14/14 F24J2/48
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
法律状态
1991-12-04 ：
驳回的专利申请
1988-06-08 ：
实质审查请求
1986-08-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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