一步法合成带有酞侧基的聚芳醚砜
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种新工艺亲核缩聚法是用K2CO3粉末代替浓KOH水溶液，把原有的二步工艺简化成一步合成，并利用在本反应中具有自催化作用的含酞五元环基团的双酚为决定性单体，与含有双卤的芳砜反应，避免了两步法所引起的种种副反应，具有反应温度低、时间短、分子量高、收率高、粘度重现性好、工艺简单、毒性小，易于控制等特点。所得产物较易加工，可作膜、片、板、管、纤维及其它结构材料，能用于宇航、核工业、机电工业、绝缘材料、医用材料、分离膜及保鲜膜等。
基本信息
专利标题 ：
一步法合成带有酞侧基的聚芳醚砜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85101721A
申请号 ：
CN85101721.5
公开（公告）日 ：
1986-09-24
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN85101721B
授权日 ：
1987-05-13
发明人 ：
刘克静张海春陈天禄
申请人 ：
中国科学院长春应用化学研究所
申请人地址 ：
吉林省长春市斯大林大街109号
代理机构 ：
中国科学院长春专利事务所
代理人 ：
曹桂珍
优先权 ：
CN85101721.5
主分类号 ：
C08G75/23
IPC分类号 ：
C08G75/23 C08G65/40
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G75/00
在高分子主链中，由形成含硫的键合，有或没有氮、氧，或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G75/20
聚砜
C08G75/23
聚醚砜
法律状态
1994-02-09 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1987-11-25 ：
授权
1986-09-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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