刻图型工程图晒印阳图的工艺方法
视为撤回的专利申请
摘要
(技术领域：G03)用于飞机、导弹、舰船、地图测绘、汽车与机械制造等刻图型工程图的晒印。本发明的主要技术特征是经紫外线感光的、以高分子感光树脂为光敏物质的、涤纶片基为载体的阴图晒印阳图的新型工艺方法。
基本信息
专利标题 ：
刻图型工程图晒印阳图的工艺方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85101941A
申请号 ：
CN85101941.2
公开（公告）日 ：
1987-06-10
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王兴惠孙德双李江曹广玉赵慧敏
申请人 ：
哈尔滨飞机制造公司
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市平房区
代理机构 ：
航空工业部专利代理事务所
代理人 ：
徐殿君
优先权 ：
CN85101941.2
主分类号 ：
G03C1/70
IPC分类号 ：
G03C1/70 G03C1/74 G03F7/08
法律状态
1992-01-15 ：
视为撤回的专利申请
1988-02-17 ：
实质审查请求
1987-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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