一种极微流量气体取样微漏孔的制造方法
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
本发明是一种新型极微流量气体取样微漏孔的制造方法。该方法是在一平面玻璃上，制作范围为1微米到20微米的小孔(微漏孔)；该孔是通过高速钻削；化学腐蚀和电击穿三道工序制作而成。用本方法制作的微漏孔用在含气器件和设备的微量气体取样中具有漏率稳定；不易堵塞、质量歧视小的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种极微流量气体取样微漏孔的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85107238A
申请号 ：
CN85107238.0
公开（公告）日 ：
1987-05-27
申请日 ：
1985-09-26
授权号 ：
CN1006090B
授权日 ：
1989-12-13
发明人 ：
王欲知刘建生
申请人 ：
电子科技大学
申请人地址 ：
四川省成都市建设北路二段四号
代理机构 ：
电子科技大学专利事务所
代理人 ：
李晓洪
优先权 ：
CN85107238.0
主分类号 ：
G01N1/22
IPC分类号 ：
G01N1/22 B28D1/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样；制备测试用的样品
G01N1/02
取样装置
G01N1/22
气体的
法律状态
1992-02-05 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1990-08-15 ：
授权
1989-12-13 ：
审定
1988-06-08 ：
实质审查请求
1987-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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