电解槽及其工作方法
专利权的视为放弃
摘要
本文提出一种电解槽，它包括一个电解槽框架，其中至少包括两个用薄膜使其相互隔离的电极室。在电解槽工作期间，至少一个所提供的电极区设有至少一个容纳一部分薄膜的空隙。在电解槽中保持一个电极室中的压力高于另一个电极室的压力，从而使薄膜被压向容纳薄膜的空隙，而消除了薄膜中的任何皱纹。
基本信息
专利标题 ：
电解槽及其工作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85108119A
申请号 ：
CN85108119.3
公开（公告）日 ：
1986-07-16
申请日 ：
1985-11-04
授权号 ：
CN1003245B
授权日 ：
1989-02-08
发明人 ：
理查德·尼尔·比瓦
申请人 ：
陶氏化学公司
申请人地址 ：
美国密执安州48640.米德兰
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
余刚
优先权 ：
CN85108119.3
主分类号 ：
C25B9/00
IPC分类号 ：
C25B9/00 C25B13/00 C25B1/46
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B9/00
电解槽或其组合件；电解槽构件；电解槽构件的组合件，例如电极－膜组合件，与工艺相关的电解槽特征
法律状态
1991-02-06 ：
专利权的视为放弃
1989-02-08 ：
审定
1986-07-16 ：
公开
1986-06-10 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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