用于电解槽的隔膜构件
被视为撤回的申请
摘要
一个用于电解槽的隔膜构件，包括一隔膜材料和一加强材料的组合，此加强材料只加在该隔膜材料的垫圈承载面处。当把此隔膜构件用于例如压滤器式电解槽中时，垫圈承载面处的隔膜结构的损坏可减至最小。
基本信息
专利标题 ：
用于电解槽的隔膜构件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85108122A
申请号 ：
CN85108122
公开（公告）日 ：
1986-07-16
申请日 ：
1985-11-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
理查德·尼尔·比瓦
申请人 ：
陶氏化学公司
申请人地址 ：
美国密执安州48640米德兰
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
陈景峻
优先权 ：
CN85108122
主分类号 ：
C25B13/02
IPC分类号 ：
C25B13/02 C25B1/46 C25B9/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B13/02
以形状或类型为特征的
法律状态
1989-12-20 ：
被视为撤回的申请
1986-07-16 ：
公开
1986-06-10 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN85108122A.PDF
PDF下载
