卤化银感光照相材料
被视为撤回的申请
摘要

涂在基材上的卤化银感光照相材料,包括至少一层卤化银乳剂层和至少一层亲水性胶体层,其中,在至少一层卤化银乳剂层和亲水性胶体层里,加有用下面通式(1)表示的三苯基四唑()化合物。其中,R1,R2和R3各表示氢原子,或HamettσP值为负数的基团,是指阴离子;不过,R1,R2和R3不能同时是氢原子。这种卤化银感光照相材料,在平版印刷术里,可用来形成网点图象,它的反差很大,在高温、高湿储存稳定,不会损害它的性能。

基本信息
专利标题 :
卤化银感光照相材料
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN85108256A
申请号 :
CN85108256
公开(公告)日 :
1986-05-10
申请日 :
1985-11-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
江崎敦雄和田肇木下武久村上健
申请人 :
小西六写真工业株式会社
申请人地址 :
日本东京都新宿区西新宿1丁目26番2号
代理机构 :
中国专利代理有限公司
代理人 :
陶令霭
优先权 :
CN85108256
主分类号 :
G03C1/04
IPC分类号 :
G03C1/04  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03C
照相用的感光材料;照相过程,例如,电影、X射线、彩色、或者立体照相过程;照相的辅助过程
G03C1/00
感光材料
G03C1/005
卤化银乳剂;它的制备;它的物理处理;向其中掺入补加剂
G03C1/04
带有大分子补加剂的;带有成层物质的
法律状态
1990-03-28 :
被视为撤回的申请
1986-12-31 :
实质审查请求
1986-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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