化学还原沉淀法及光催化法处理电镀污水
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
一种用化学法处理电镀污水的方法，本发明的特点是采用一种含BaS的化学还原沉淀剂，能使电镀污水中的CN-达工业排放标准，使Cr6+全部还原沉淀，使重金属(Zn2+ Cu2+ Ni2+ Sn2+ Pb2+ Fe2+等)全部沉淀，除去水中的SO2-4调整水的pH值。经本方法处理后的水可循环使用，沉淀物可用制做涂料或提炼有用金属。
基本信息
专利标题 ：
化学还原沉淀法及光催化法处理电镀污水
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85109068A
申请号 ：
CN85109068.0
公开（公告）日 ：
1987-01-24
申请日 ：
1985-12-17
授权号 ：
CN85109068B
授权日 ：
1988-10-12
发明人 ：
李玉根
申请人 ：
李玉根
申请人地址 ：
河北省唐山市教育学院化学系
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN85109068.0
主分类号 ：
C02F1/70
IPC分类号 ：
C02F1/70
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/70
还原法
法律状态
1991-05-22 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1989-09-06 ：
授权
1988-10-12 ：
审定
1987-10-21 ：
实质审查请求
1987-01-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN85109068B.PDF
PDF下载
2、
CN85109068A.PDF
PDF下载
