磁化流体射流装置
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
一种用于充氧、化学反应的磁化流体射流装置，具有磁化和射流的双重功能。当流体在此装置中通过时，将受到强磁场的磁化流体的分子结构发生变化，离子发生变形，从而使其物理和化学性能，如溶解度、渗透压、含氧量等有所改变。被磁化的流体，又在喷射作用下，被剪切成超微气泡和液泡，从而提高了传质和反应的动力效率。是一种节能高效装置。它可用于废水、废气处理和两种物质反应等方面，具有构造简单、维修管理方便，造价低等优点。
基本信息
专利标题 ：
磁化流体射流装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN85205255.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1985-11-29
授权号 ：
CN85205255U
授权日 ：
1986-11-12
发明人 ：
赵国显
申请人 ：
赵国显
申请人地址 ：
湖北省襄樊市新华路环境保护局
代理机构 ：
湖北省襄樊市专利事务所
代理人 ：
孟景前
优先权 ：
CN85205255.3
主分类号 ：
C02F3/00
IPC分类号 ：
C02F3/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F3/00
水、废水或污水的生物处理
法律状态
1995-02-01 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1993-09-15 ：
专利权的终止专利权的主动放弃
1991-01-30 ：
专利权有效期的续展
1987-05-27 ：
授权
1986-11-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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