消分馏的方法和装置
被视为撤回的申请
摘要
本发明和以几种液态物质为原料的气相化学反应，特别是掺杂的气相化学淀积技术领域相关。为消除分馏，向蒸发液中随时补充与被气流带走的成分相同，体积相等的液体。此法适用于多元溶液，稳定性好，装置成本低。
基本信息
专利标题 ：
消分馏的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86104713A
申请号 ：
CN86104713
公开（公告）日 ：
1988-01-27
申请日 ：
1986-07-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨韧
申请人 ：
杨韧
申请人地址 ：
北京市650信箱
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN86104713
主分类号 ：
H01L21/205
IPC分类号 ：
H01L21/205 H01L21/223 C30B31/18
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18
器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料
H01L21/20
半导体材料在基片上的沉积，例如外延生长
H01L21/205
应用气态化合物的还原或分解产生固态凝结物的，即化学沉积
法律状态
1989-11-29 ：
被视为撤回的申请
1988-01-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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