吡啶衍生物及其制备方法和除草组剂
被视为撤回的申请
摘要
一种具有以上结构式的吡啶衍生物：(I)式中：A、B、D和E中的一个为氧、硫、-SO-等，余下的均为碳原子；X为卤素、C1-C4烷基；n为0到6的整数；W为氧或硫；R为氢、低级二烷基亚胺等；R1为C1-C4烷基、R2为C1—C4烷基等、或R1和R2相邻的碳原子连在一起构成环烷基；R3为氢或C1C3烷基。
基本信息
专利标题 ：
吡啶衍生物及其制备方法和除草组剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86105501A
申请号 ：
CN86105501
公开（公告）日 ：
1987-01-21
申请日 ：
1986-07-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
沼田远雄烟中雅隆渡边淳一猪饲隆绳卷勤服部宪治
申请人 ：
日产化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都千代田区神田锦町三丁目7番地1
代理机构 ：
上海专利事务所
代理人 ：
吴惠中
优先权 ：
CN86105501
主分类号 ：
C07D495/04
IPC分类号 ：
C07D495/04 C07D493/04 C07D487/04 C07D401/04 A01N43/90
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D495/00
杂环化合物，在稠环系中至少有1个杂环具有硫原子作为仅有的杂环原子
C07D495/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D495/04
邻位稠合系
法律状态
1989-06-14 ：
被视为撤回的申请
1987-01-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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