荧光面的形成方法
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
本发明涉及一种荧光面的形成方法，其中包括在阴极射线管荧光屏上涂敷通过光照射会产生粘附性的抗蚀剂，使抗蚀剂的面曝光成图形状从而使其能图形地显示出粘附性，在阴极射线管荧光屏中投入荧光体从而在发现了粘附性的抗蚀剂上粘附荧光体，并从阴极射线管荧光屏上除去多余的荧光体，上述荧光体通过用粉体粒子对其表面进行包覆而形成包覆体，该包覆后的BET法的比表面选定在包覆前的荧光体比表面的1.5～4.0倍之范围内。
基本信息
专利标题 ：
荧光面的形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86106804A
申请号 ：
CN86106804.1
公开（公告）日 ：
1987-04-01
申请日 ：
1986-09-26
授权号 ：
CN1004663B
授权日 ：
1989-06-28
发明人 ：
伊藤武夫佐合诚司渡部真悟
申请人 ：
东芝株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县川崎市幸区堀川町72番地
代理机构 ：
上海专利事务所
代理人 ：
王孙佳
优先权 ：
CN86106804.1
主分类号 ：
H01J9/227
IPC分类号 ：
H01J9/227 H01J29/18
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J9/00
专用于制造放电管、放电灯及其部件的设备和方法；从放电管或灯回收材料
H01J9/20
屏的制造，在该屏上或从该屏形成、摄取、变换或贮存图像或图形；对管壳涂敷涂层的
H01J9/22
涂敷发光涂层
H01J9/227
发光材料不连续分布的，如以点或线分布
法律状态
2002-05-15 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1990-01-31 ：
授权
1989-06-28 ：
审定
1987-04-01 ：
公开
1987-02-25 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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