咪唑化合物及其制备方法，和包含该化合物的药物组合物
被视为撤回的申请
摘要
一种制备下式化合物或其盐的方法 其中R1是吡啶基， R2是氢，低级烷基或羟基(低级烷基)， R3是氢，羟基或低级烷基， R4是可被选自下述取代基选择取代的芳基， 取代物是低级烷硫基，低级烷亚磺酰基，低级烷磺酰基，硝基，氨基，取代氨基，羟基，低级烷氧基，低级炔氧基，取代或未取代的芳(低级)烷氧基，卤素，卤代(低级)烷基，羧基和酯化羧基。
基本信息
专利标题 ：
咪唑化合物及其制备方法，和包含该化合物的药物组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87105680A
申请号 ：
CN87105680
公开（公告）日 ：
1988-04-27
申请日 ：
1987-08-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高杉寿伊藤清隆西野重孝田中明人高谷隆男
申请人 ：
藤次药品工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪市
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
杨剑侠
优先权 ：
CN87105680
主分类号 ：
C07D401/04
IPC分类号 ：
C07D401/04 A61K31/44
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D401/00
杂环化合物，含有两个或更多个杂环，以氮原子作为仅有的杂环原子，至少有1个环是仅含有1个氮原子的六元环
C07D401/02
含有两个杂环
C07D401/04
被环原子-环原子的键直接连接的
法律状态
1990-05-02 ：
被视为撤回的申请
1988-04-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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