用于低压羰基化催化剂的螯合配位体及其使用方法
专利权的终止(专利权有效期届满)
摘要

一种羰基化反应,其中至少含2到20个碳原子的一种烯烃与氢、一氧化碳和催化剂接触反应,反应区的温度大约从20℃到大约250℃,反应压力大约从15磅/英寸2表压到大约800磅/英寸2表压,催化剂含铑并至少有下式的一种配位体:式中各字母定义见说明书。也公布了一些新型的配位体,式中的一个或两个Ar部分是苯环。

基本信息
专利标题 :
用于低压羰基化催化剂的螯合配位体及其使用方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1032002A
申请号 :
CN87106834.6
公开(公告)日 :
1989-03-29
申请日 :
1987-09-14
授权号 :
CN1019111B
授权日 :
1992-11-18
发明人 :
托马斯·詹姆斯·德文杰拉尔德·韦恩·菲利普斯托马斯·艾伦·帕克特杰罗姆·伦纳德·斯塔温诺哈杰弗里·詹姆斯·范德比尔特
申请人 :
伊斯曼柯达公司
申请人地址 :
美国纽约州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
罗宏
优先权 :
CN87106834.6
主分类号 :
C07C47/02
IPC分类号 :
C07C47/02  C07C45/50  C07F9/50  B01J31/24  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C47/00
含有-CHO基的化合物
C07C47/02
含有-CHO基连接在非环碳原子或氢原子上的饱和化合物
法律状态
2008-04-23 :
专利权的终止(专利权有效期届满)
2002-03-20 :
其他有关事项
1994-12-28 :
著录项目变更
变更事项 : 申请人
变更前 : 伊斯曼柯达公司
变更后 : 伊斯曼化学公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国纽约州
变更后 : 美国田纳西州
1993-08-18 :
授权
1992-11-18 :
审定
1990-12-19 :
实质审查请求
1989-03-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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