蚀刻玻璃及其制造方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及化学钢化并具有蚀刻图案的数据存储玻璃板及其制造方法，其中所说图案包括一条或多条纹道，这些纹道由氟离子蚀刻在玻璃板上以形成至少一条导轨，其特征在于所说蚀刻纹道宽度小于10μm并且蚀刻深度为50nm-2μm，而相邻两纹道间距小于10μm并且所说导轨底部粗糙底Ra小于10nm。本发明特别适用于制作记录数据的存储图盘和高透光率的光盘。
基本信息
专利标题 ：
蚀刻玻璃及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87108379A
申请号 ：
CN87108379.5
公开（公告）日 ：
1988-07-13
申请日 ：
1987-12-22
授权号 ：
CN1024182C
授权日 ：
1994-04-13
发明人 ：
安德里·赫克里恩·莱德罗特
申请人 ：
格拉沃贝尔公司
申请人地址 ：
比利时布鲁塞尔
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
段承恩
优先权 ：
CN87108379.5
主分类号 ：
C03C15/00
IPC分类号 ：
C03C15/00 G11B7/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C03
玻璃；矿棉或渣棉
C03C
玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合
C03C15/00
纤维和丝之外的蚀刻法玻璃表面处理
法律状态
1996-02-07 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1994-04-13 ：
授权
1989-10-25 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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