双隔片光解池
视为撤回的专利申请
摘要
双隔片光解池涉及一种将光能直接转变为化学能并特别适用于光解水制氢的光解池，由容器、半导体光隔片和复合隔片组成，光隔片和复合隔片相互绝缘并分别与器壁相连，从而将容器分隔为透光池和背光池，透光池和背光池中分别充入不同种电解质溶液，光束可穿过透光器壁和透光池中的电解质溶液层照射到半导体光隔片上并且在光隔片与电解质溶液的接触界面上产生光电化学过程，在透光池和/或背光池中获得光解产物。
基本信息
专利标题 ：
双隔片光解池
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1036994A
申请号 ：
CN88102058.3
公开（公告）日 ：
1989-11-08
申请日 ：
1988-04-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
肖科
申请人 ：
中国科学院界面科学实验室
申请人地址 ：
天津市河西区马场道271号5号楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN88102058.3
主分类号 ：
C25B9/00
IPC分类号 ：
C25B9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B9/00
电解槽或其组合件；电解槽构件；电解槽构件的组合件，例如电极－膜组合件，与工艺相关的电解槽特征
法律状态
1991-08-28 ：
视为撤回的专利申请
1989-11-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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