辐射的检测系统
专利申请的视为撤回
摘要
用来传送激发辐射到一样品并收集发自样品的辐射的装置和方法，样品置于一深井内，该深井包含一壁面和由一膜片封闭的底端而形成的一样品容器，备有一格林(陡度折射率)透镜，格林透镜有一第一面和一第二面，第二面插入深入井内。在格林透镜第一面的点光源由透镜来调节并随后再从透镜第二面发向膜片。从样品来的反射，照射或荧光辐射入射到透镜的第二面，通过透镜再从第一面发向收集装置，一检测器以及任何想要的过程。
基本信息
专利标题 ：
辐射的检测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1031423A
申请号 ：
CN88106162.X
公开（公告）日 ：
1989-03-01
申请日 ：
1988-08-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
戴维·泰勒·巴哈
申请人 ：
阿莫科公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
宋敏
优先权 ：
CN88106162.X
主分类号 ：
G01N21/62
IPC分类号 ：
G01N21/62
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
法律状态
1993-01-20 ：
专利申请的视为撤回
1990-10-24 ：
实质审查请求
1989-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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